外消旋混合物含有等量的一对对映体_顺反异构可出现于受限旋转的结构之中_外消旋体整体通常不表现净旋光作用

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绝对构型标记遵循规定的基团优先次序。相对构型比较分子之间的空间关系。顺反异构可出现于受限旋转的结构之中。双键两端取代基不同可能形成几何异构。双键构型可以使用优先序规则加以标记。单键旋转可以产生不同的分子构象。构象异构通常不需要断开化学键即可互变。交叉构象与重叠构象具有不同的能量。近期也有不少人关注vwd，可以结合自身情况参考。

环己烷椅式构象能够减小部分空间张力。轴向与赤道向取代基处于不同空间环境。体积较大基团通常偏好空间排斥较小的位置。立体位阻会影响反应物接近活性中心的能力。同一化学式的不同立体结构可能有不同气味。生物酶常能区分底物的不同对映体。手性环境使对映体可能表现不同相互作用。对映体在非手性环境中的许多物理性质相同。

手性色谱可以用于分离某些对映异构体。不对称合成偏向形成目标的一种立体异构体。手性催化剂能够影响产物的对映选择性。光学纯度与对映体比例有关但需明确测量条件。内消旋化合物具有立体中心却可整体无手性。分子内部对称性能够消除整体手性特征。立体专一反应与立体选择反应含义不同。亲核取代过程可能伴随反应中心构型翻转。